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當(dāng)前位置：首頁  >  產(chǎn)品中心  >  EVG鍵合機  >  對準(zhǔn)設(shè)備  >  EVG610 BA晶圓對準(zhǔn)設(shè)備

晶圓對準(zhǔn)設(shè)備

簡要描述：晶圓缺陷檢測設(shè)備專為晶圓與晶圓對準(zhǔn)設(shè)計，晶圓尺寸大可達(dá)150 mm。EV Group鍵合對準(zhǔn)系統(tǒng)提供手動高精度帶有底部顯微鏡的校準(zhǔn)臺。EVG的鍵合對準(zhǔn)系統(tǒng)的精度能滿足MEMS生產(chǎn)和3D集成應(yīng)用等新興領(lǐng)域中苛刻的對準(zhǔn)要求。

  • 產(chǎn)品型號：EVG610 BA
  • 廠商性質(zhì)：代理商
  • 產(chǎn)品資料：
  • 更新時間：2024-03-19
  • 訪  問  量： 3453

詳細(xì)介紹

　　晶圓缺陷檢測設(shè)備用于晶圓到晶圓對準(zhǔn)的手動鍵合對準(zhǔn)系統(tǒng)，適用于學(xué)校和工業(yè)研究。
　　一、簡介

　　EVG610鍵合對準(zhǔn)系統(tǒng)專為晶圓與晶圓對準(zhǔn)設(shè)計，晶圓尺寸最大可達(dá)150 mm。EV Group鍵合對準(zhǔn)系統(tǒng)提供手動高精度帶有底部顯微鏡的校準(zhǔn)臺。EVG的鍵合對準(zhǔn)系統(tǒng)的精度能滿足MEMS生產(chǎn)和3D集成應(yīng)用等新興領(lǐng)域中苛刻的對準(zhǔn)要求。

 

　　二、特征

　　zui適用于EVG501和EVG510鍵合系統(tǒng)
　　晶圓和基板尺寸可達(dá)150/200 mm
　　手動高精度對準(zhǔn)
　　手動底側(cè)顯微鏡
　　基于Windows系統(tǒng)的用戶界面
　　*的多用戶概念(無限數(shù)量的用戶帳戶，各種訪問權(quán)限，不同的用戶界面語言)
　　桌面系統(tǒng)設(shè)計，占地面積zui小
　　支持IR對準(zhǔn)過程
　　研發(fā)和試生產(chǎn)線的zui低的擁有成本(TCO)
三、技術(shù)參數(shù)
　　1.基本配置：
　　臺式
　　機架：可選
　　隔振模式：被動
　　2.對準(zhǔn)方式：
　　背部對住精度：±2μm 3 σ
　　透射對準(zhǔn)精度：±1μm 3 σ
　　紅外對準(zhǔn)：可選
　　3.對準(zhǔn)臺：
　　高精度測微計：手動
　　可選：機械測微計
　　楔形補償：自動

 

 

 

 

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