當(dāng)前位置：首頁 > 技術(shù)文章
膜厚測量儀是一種廣泛應(yīng)用于科研、工業(yè)生產(chǎn)和質(zhì)量控制領(lǐng)域的精密儀器，其主要功能在于準(zhǔn)確測量薄膜、涂層或其他薄層材料的厚度。這種儀器在多個行業(yè)中發(fā)揮著至關(guān)重要的作用，為產(chǎn)品的性能評估和質(zhì)量控制提供了有力支持。膜厚測量儀的工作原理基于多種物理現(xiàn)象...
一、用途光刻機是芯片制造的核心設(shè)備之一，按照用途可以分為好幾種：有用于生產(chǎn)芯片的光刻機；有用于封裝的光刻機；還有用于LED制造領(lǐng)域的投影光刻機。二、工作原理在加工芯片的過程中，光刻機通過一系列的光源能量、形狀控制手段，將光束透射過畫著線路圖的掩模，經(jīng)物鏡補償各種光學(xué)誤差，將線路圖成比例縮小后映射到硅片上，然后使用化學(xué)方法顯影，得到刻在硅片上的電路圖。一般的光刻工藝要經(jīng)歷硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻膠、軟烘、對準(zhǔn)曝光、后烘、顯影、硬烘、激光刻蝕等工序。經(jīng)過一次光刻的芯片可以...
現(xiàn)在光刻機與我們的生活息息相關(guān)，我們用的手機，電腦等各種各樣的電子產(chǎn)品，里面的芯片制作離不開光刻機。如今的世界是一個信息社會，各種各樣的信息流在世界流動。而光刻機的技術(shù)是保證制造承載信息的載體。在社會上擁有不可替代的作用。光刻機的技術(shù)應(yīng)用領(lǐng)域：平版印刷術(shù)用于在用戶不希望影響其整個樣品的工藝步驟（主要是沉積或蝕刻）之前對樣品進行構(gòu)圖。在蝕刻之前，使用光刻技術(shù)來形成抗蝕劑保護層，該保護層僅將材料保留在存在抗蝕劑的位置（負(fù)圖案）。在使用沉積光刻進行剝離之前，在沉積之后剝離抗蝕劑，僅...
近半個世紀(jì)以來，硅一直是世界科技繁榮的焦點，芯片制造商幾乎都在壓榨它的性能。傳統(tǒng)上用于制造芯片的技術(shù)在2005年左右達到極限，芯片制造商不得不尋求其他技術(shù)，將更多的晶體管塞到硅上，從而制造出更強大的芯片。光刻機必須把工程師繪制的電路板精確無誤地投到硅晶圓上，不允許有絲毫誤差，可見難度之高！將晶體管封裝到芯片上的傳統(tǒng)工藝被稱為“深紫外光刻”（DUV），這是一種類似攝影的技術(shù)，通過透鏡聚焦光線，在硅晶片上刻出電路圖案。受到物理定律的影響，這種技術(shù)可能很快就會出現(xiàn)問題。利用極紫外光...
光刻技術(shù)與我們的生活息息相關(guān)，我們用的手機、電腦等各種各樣的電子產(chǎn)品，里面的芯片制作離不開光刻技術(shù)。如今的世界是一個信息社會，而光刻技術(shù)是制造承載信息的載體的關(guān)鍵技術(shù)，具有不可替代的作用。一、光刻技術(shù)的原理光刻就是把芯片制作所需要的線路與功能區(qū)做出來。利用光刻機上紫外光源發(fā)出的光通過具有圖形的光罩對涂有光刻膠的薄片曝光，光刻膠見光后會發(fā)生性質(zhì)變化，從而使光罩上的圖形復(fù)印到薄片上，從而使薄片具有電子線路圖的作用。這就是光刻的作用，類似照相機照相。照相機拍攝的照片是印在底片上，而...
光刻機應(yīng)用的光刻技術(shù)是將二維圖案轉(zhuǎn)印到平坦基板上的方法?？梢酝ㄟ^以下兩種基本方法之一實現(xiàn)圖案化：直接寫入圖案，或通過掩模版/印章轉(zhuǎn)移圖案。限定的圖案可以幫助限定襯底上的特征（例如蝕刻），或者可以由沉積的圖案形成特征。通過計算機輔助設(shè)計（CAD）定義圖案模式。多數(shù)情況下，這些特征是使用抗蝕劑形成的，可以使用光（使用光致抗蝕劑），電子束（使用電子束抗蝕劑）或通過物理沖壓（不需要抗蝕劑，也叫納米壓?。﹣矶x圖案特征。圖案的特征可以被轉(zhuǎn)移到另一個層蝕刻，電鍍或剝離。光刻機的用料：1、...
